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GSL-1800X-ZF4蒸發(fā)鍍膜儀 參考價(jià)：面議
GSL-1800X-ZF4蒸發(fā)鍍膜儀是一款高真空的蒸發(fā)鍍膜儀，特別適合蒸鍍對(duì)氧較敏感的金屬膜（如Ti、Al 、Au等）和小分子的有機(jī)物。本機(jī)設(shè)有4個(gè)蒸鍍加熱舟，...
VTC-16-1HD單靶磁控濺射儀 參考價(jià)：面議
VTC-16-1HD單靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開(kāi)發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、...
VTC-600GD高真空磁控濺射儀 參考價(jià)：面議
VTC-600GD高真空磁控濺射儀是新自主研制開(kāi)發(fā)的鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物...
鈣鈦礦鍍膜機(jī) 參考價(jià)：面議
鈣鈦礦鍍膜機(jī)主要由有機(jī)/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)、真空測(cè)量系統(tǒng)、蒸發(fā)源、樣品加熱控溫、電控系統(tǒng)、配氣系統(tǒng)等部分組成。適用于制備金屬單質(zhì)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、氧...
VTC-1RF-SPC磁控濺射蒸發(fā)鍍膜儀 參考價(jià)：面議
VTC-1RF-SPC磁控濺射蒸發(fā)鍍膜儀是一套可實(shí)現(xiàn)射頻磁控濺射和蒸發(fā)鍍膜功能的系統(tǒng)，包含射頻電源、溫控型蒸發(fā)鍍膜模塊、真空系統(tǒng)，水冷設(shè)備，磁控濺射靶頭，不銹鋼...
GSL-1100X-SPC-15E-LD小型蒸鍍儀 參考價(jià)：面議
GSL-1100X-SPC-15E-LD小型蒸鍍儀可對(duì)樣品進(jìn)行鍍碳處理，可處理的樣品直徑可達(dá)50mm，真空度可達(dá)到10-2torr，適合用于實(shí)驗(yàn)室對(duì)小樣品進(jìn)行表...
VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀 參考價(jià)：面議
VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀與同類(lèi)設(shè)備相比，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，且可使用的材料范圍廣，是一款實(shí)驗(yàn)室制備各類(lèi)材料薄膜的理想設(shè)備。
VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀 參考價(jià)：面議
VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀與同類(lèi)設(shè)備相比，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，且可使用的材料范圍廣，是一款實(shí)驗(yàn)室制備各類(lèi)材料薄膜的理想設(shè)備。
VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀 參考價(jià)：面議
VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開(kāi)發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜...
VTC-600G高真空磁控濺射儀 參考價(jià)：面議
VTC-600G高真空磁控濺射儀是新自主研制開(kāi)發(fā)的鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄...
VTC-600-3HD-1000三靶磁控濺射儀 參考價(jià)：面議
VTC-600-3HD-1000三靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開(kāi)發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜...
GSL-1800X-ZF2蒸發(fā)鍍膜儀 參考價(jià)：面議
GSL-1800X-ZF2蒸發(fā)鍍膜儀主要應(yīng)用于大專(zhuān)院校、科研機(jī)構(gòu)、企業(yè)實(shí)驗(yàn)室及微小產(chǎn)品進(jìn)行真空鍍膜等真空處理的工藝研究、樣板試制、操作培訓(xùn)和生產(chǎn)。
GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：面議
GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀是依據(jù)二極（DC）直流濺射原理設(shè)計(jì)而成的Z簡(jiǎn)單、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜設(shè)備，適用于實(shí)驗(yàn)室各種復(fù)合膜樣品的制備，以及非導(dǎo)...
3靶等離子濺射儀 參考價(jià)：面議
VTC-16-3HD 3靶等離子濺射儀是一款緊湊型的等離子薄膜濺射儀（直流普通型），控制面板采用觸摸屏模式，基片極限尺寸為2″，放置樣品的直徑為Ø50...
GSL-1100X-SPC-16單靶等離子濺射儀 參考價(jià)：面議
GSL-1100X-SPC-16單靶等離子濺射儀是一款緊湊型的等離子濺射儀，可進(jìn)行金、鉑、銦、銀等多種金屬的濺射鍍膜，樣品直徑可達(dá)50mm，鍍膜厚度可達(dá)300?...
GSL-1100X-SPC-16-3等離子三靶濺射儀 參考價(jià)：面議
GSL-1100X-SPC-16-3等離子三靶濺射儀是依據(jù)二極（DC）直流濺射原理設(shè)計(jì)而成的Z簡(jiǎn)單、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜設(shè)備。本機(jī)特別之處是在一個(gè)真空室內(nèi)安裝了三個(gè)...
濺射蒸發(fā)一體機(jī) 參考價(jià)：面議
VTC-180EVS濺射蒸發(fā)一體機(jī)主要應(yīng)用于大專(zhuān)院校、科研機(jī)構(gòu)、企業(yè)實(shí)驗(yàn)室及微小產(chǎn)品進(jìn)行真空鍍膜等真空處理的工藝研究、樣板試制、操作培訓(xùn)和生產(chǎn)。
GSL-1100X-SPC-16C濺射蒸鍍膜儀 參考價(jià)：面議
GSL-1100X-SPC-16C濺射蒸鍍膜儀配備了熱蒸發(fā)附件，具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。不但可以用等離子濺射的方式鍍金屬膜，也可以用蒸發(fā)的方式得到碳或其他金屬單...
VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀 參考價(jià)：面議
VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀是新自主研制開(kāi)發(fā)的鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化...
VTC-16-SM小型高能直流磁控濺射儀 參考價(jià)：面議
產(chǎn)品簡(jiǎn)介：VTC-16-SM小型高能直流磁控濺射儀是一款桌面式等離子磁控濺射鍍膜儀，包含一個(gè)2英寸水冷靶頭（另有1英寸靶頭可選）和可旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)。水冷靶頭使鍍膜后...
磁控濺射卷繞鍍膜機(jī) 參考價(jià)：面議
產(chǎn)品簡(jiǎn)介：磁控濺射卷繞鍍膜機(jī)是磁控濺射多用途卷繞鍍膜設(shè)備，適用于在 PET 和無(wú)紡布上鍍制金屬膜（銅，鋁等）功能性薄膜，設(shè)備采用*的磁控濺射鍍膜技術(shù)，配備直流、...
VGB-600-3HD薄膜電池制備系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
VGB-600-3HD薄膜電池制備系統(tǒng)可在手套箱內(nèi)進(jìn)行實(shí)驗(yàn)操作，用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物...
小型粉末PVD包覆系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
小型粉末PVD包覆系統(tǒng)VTC-16PW是一款小型粉末包覆系統(tǒng)，主要有2英寸磁控濺射頭和振動(dòng)樣品臺(tái)組成。粉末在振動(dòng)樣品臺(tái)上振動(dòng)翻滾，通過(guò)濺射在粉末表面進(jìn)行包覆形成...
OTF-1200X-RTP-II近距離蒸發(fā)鍍膜（CSS）爐 參考價(jià)：面議
OTF-1200X-RTP-II近距離蒸發(fā)鍍膜（CSS）爐是一款快速蒸發(fā)管式爐，專(zhuān)門(mén)用于PVD或CSS法制作薄膜；其爐管外徑為11″，爐管內(nèi)載樣盤(pán)可放置3″ 的...(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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